위상 시프트 마스크 블랭크 및 위상 시프트 마스크, 및위상 시프트 마스크 블랭크 및 위상 시프트 마스크의 제조방법

Phase Shift Mask Blank and Phase Shift Mask, and Method of Manufacture

Abstract

본 발명은 투명 기판 상에 위상 시프트막을 1층 이상 설치하여 이루어지며, 위상 시프트막이 1 ppm 이상의 오존이 용해되어 있는 오존수에 의해 표면 처리된 것인 것을 특징으로 하는 위상 시프트 마스크 블랭크에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 반응성 스퍼터링법으로 위상 시프트막을 막 형성한 후에, 마스크의 공정 등에 사용되는 화학 약품에 침지한 후라도 위상차와 투과율의 변화량이 적은, 고품질의 위상 시프트 마스크 블랭크 및 위상 시프트 마스크가 얻어진다.
PURPOSE: To obtain a high quality phase shifting mask blank having a phase shifting film which ensures a slight variation in phase contrast and transmittance even after the film is immersed in liquid chemicals used in a mask cleaning step, etc., after film deposition by reactive sputtering and to obtain a high quality phase shifting mask. CONSTITUTION: In a phase shifting mask blank obtained by disposing at least one phase shifting film on a transparent substrate, the phase shifting film is surface-treated with ozonic water containing >=1 ppm dissolved ozone.

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    KR-101067563-B1September 27, 2011프리스케일 세미컨덕터, 인크.감쇠된 위상 시프트 마스크를 이용하여 웨이퍼상에서포토레지스트를 패터닝하는 방법